文/北京集佳知識產(chǎn)權代理有限公司西安分部 潘紅

　　“限制性要求（Restriction Requirement）”又稱為“限縮要求”，是美國專利申請審查過程中經(jīng)常遇到的一種特有的審查意見。當美國審查員認為一件申請中包含多組彼此獨立（independent）且可區(qū)分的（distinct）權利要求時，經(jīng)常會針對這多個組的權利要求提出“限制性要求”，以減輕后續(xù)的審查負擔。

　　一、限制性要求

　　37 CFR 1.142 Requirement for restriction.

　　（a）If two or more independent and distinct inventions are claimed in a single application, the examiner in an Office action will require the applicant in the reply to that action to elect an invention to which the claims will be restricted, this official action being called a requirement for restriction (also known as a requirement for division). Such requirement will normally be made before any action on the merits; however, it may be made at any time before final action.

　　（b）Claims to the invention or inventions not elected, if not canceled, are nevertheless withdrawn from further consideration by the examiner by the election, subject however to reinstatement in the event the requirement for restriction is withdrawn or overruled.

　　美國專利審查中的“限制性要求”與中國的“單一性”在審查方式，法律依據(jù)以及答復策略方面都截然不同的。美國審查員在發(fā)出“限制性要求”的審查意見時具有很大的自由裁量權，甚至無需基于任何實質(zhì)審查和檢索分析，僅在其認為該美國申請涉及幾組不同類型的權利要求時，即可主觀判斷會增加其“檢索負擔”而要求申請人進行選擇。一般情況下，“限制性要求”的審查意見會在第一次審查意見（Non-final office action）之前單獨發(fā)出，但在后續(xù)的審查階段，也有可能會發(fā)出“限制性要求”的審查意見。

　　在申請中存在相互獨立（Independent）或可區(qū)分（distinct）的多組權利要求，且對這多組權利要求進行審查會給審查員帶來嚴重的審查負擔時，審查員才會發(fā)出“限制性要求”審查意見。

　　限制性要求主要分為兩類：發(fā)明的限制要求和“子類”的選擇要求。前者需要申請人在獨立的權利要求組之間進行選擇，例如，產(chǎn)品及其制造方法；后者要求申請人選擇具體的實施例對應的一個子類。

　　二、“限制性要求”審查意見答復策略

　　在答復“限制性要求”審查意見時，申請人必須選擇一組發(fā)明/子類對應的權利要求，并且可以在選擇的同時進行反駁以便在所選擇的發(fā)明授權時請求重新加入撤回的權利要求。由于“限制性要求”發(fā)出的原因在于不同的發(fā)明的審查帶來的審查負擔，因此，可以將反駁重點側(cè)重在沒有增加審查員的審查負擔方面，而不建議對發(fā)明的一些技術特征進行詳細闡述，以避免對后續(xù)審查甚至訴訟階段帶來負面的嚴重影響。

　　三、發(fā)明的限制要求和“子類”的選擇要求兩類限制性要求的答復方式

　　筆者以實踐中的兩個案例來分別就上述兩類限制性要求的答復方式進行闡釋。

　　1、發(fā)明的限制要求

　　例如，產(chǎn)品及其制造方法，裝置及其包括裝置的產(chǎn)品，以及產(chǎn)品及其使用方法等類似的權利要求撰寫方式很有可能收到限制性選擇要求。例如，對于產(chǎn)品及其制造方法，審查員會認為這兩組權利要求是可區(qū)分的，即，方法可以用于制造其他產(chǎn)品，或者產(chǎn)品可以通過其他方法來制造。

　　這時候，建議申請人根據(jù)自身需要來選擇其中最重要的一組權利要求。如果申請人沒有特別需求的話，則建議選擇范圍較小（即，包含特征較多）的一組權利要求，以使得增大授權的可能性，并且便于在授權后重新加入撤回的權利要求。例如，在產(chǎn)品及其制造方法這兩組權利要求中，由于產(chǎn)品包含更具化的特征，因此，建議申請人選擇產(chǎn)品權利要求。如此，一旦產(chǎn)品權利要求授權，則可以請求將方法權利要求重新加入進來。

　　例如，下述申請的權利要求即需要進行發(fā)明的限制性選擇。

　　1.一種晶圓結構的制造方法，其特征在于，包括：

　　提供晶圓鍵合結構，所述晶圓鍵合結構包括第一晶圓和第二晶圓，所述第一晶圓的正面鍵合至所述第二晶圓的正面，所述第一晶圓包括第一襯底以及第一襯底上的介質(zhì)層以及所述介質(zhì)層上的互連層；

　　從所述第一晶圓的背面形成貫穿所述第一襯底的開口；

　　在所述開口下的介質(zhì)層中形成凹凸結構，所述凹凸結構包括間隔排布的凹部和凸部，且至少部分凹部貫穿至所述互連層；

　　進行所述凹凸結構的填充，以在所述凹凸結構上形成襯墊，所述襯墊具有與所述凹凸結構相同的凹凸排布。

　　......

　　7.一種芯片結構，其特征在于，包括：

　　芯片鍵合結構，

　　所述芯片鍵合結構包括第一芯片和第二芯片，所述第一芯片的正面鍵合至所述第二芯片的正面，所述第一芯片包括第一襯底以及第一襯底上的介質(zhì)層以及所述介質(zhì)層上的互連層；

　　從所述第一芯片的背面貫穿所述第一襯底的開口；

　　所述開口下的介質(zhì)層中的凹凸結構，所述凹凸結構的凹部和凸部間隔排布，且至少部分凹部貫穿至所述互連層；

　　填充所述凹凸結構且位于所述凹凸結構上的襯墊，所述襯墊具有與所述凹凸結構相同的凹凸排布。

　　8.一種晶圓結構，其特征在于，包括晶圓鍵合結構，所述晶圓鍵合結構包括陣列排布的如權利要求7所述的芯片結構。

　　審查員指出第一組（權利要求1-6）的方法可以用于制造其他的產(chǎn)品，而第二組（權利要求7-8）的產(chǎn)品可以有其他的方法來制造。

　　針對上述申請的限制性選擇要求，如果申請人沒有特殊要求，優(yōu)選選擇產(chǎn)品權利要求，并進行反駁。待后續(xù)產(chǎn)品權利要求授權時，可以請求重新加入未選擇的方法權利要求。

　　不過，這里需要注意的是，如果申請人有分案的打算，則建議僅進行選擇而不建議進行反駁。如果進行反駁的話，在后續(xù)提交分案申請之后，審查員有可能會撤回限制性要求審查意見，而造成重復授權的另一問題，從而對后續(xù)專利授權、許可等造成不必要的負面影響。

　　另外，也可以選擇修改并進行反駁的答復方式。即將其中的一組權利要求修改成與另一組權利要求特征完全對應，甚至是這兩組權利要求都需要一定程序的修改。在選擇這種答復思路時，申請人需要更加謹慎，因為在當前階段過度的修改權利要求，會因為局限于克服限制性要求而過多的限定了發(fā)明，這只考慮了眼前的局部的問題，從長遠看并不能準確地把握住實質(zhì)，也不能很好地控制審查費用、周期、有其他關聯(lián)申請時的風險。

　　2、“子類”的選擇要求

　　當一件申請包含一個一般性（generic）權利要求和多個彼此獨立或可區(qū)分的子類對應的從屬權利要求時，通常需要對其中的一類進行選擇。一般地，一般性權利要求即規(guī)定發(fā)明的必要技術特征或者這些子類的共同技術特征的權利要求，而每個子類通常包含一般性權利要求的下位實施例所對應的特征或進一步限定。這種情況下，審查員可能需要對這些下位實施例對應的不同特征均進行檢索，從而會造成嚴重的審查負擔。因此，申請人需要選擇其中的一類權利要求來進行審查并進行反駁。

　　在這種情況下，優(yōu)選建議申請人嘗試使得這些子類的一般性權利要求獲得授權，從而未選擇的子類可以通過請求來重新加入。

　　例如，子類的限制性選擇審查意見中，審查員往往通過附圖來劃分不同的子類，每個子類對應一個實施例。例如：

　　在這種情況下，申請人可以通過結合附圖確定每項權利要求所對應的附圖，從而確定選擇不同的子類時，可以選擇到哪些權利要求。最終，根據(jù)申請人的需求來選擇相應的子類進行審查。如果最終一般性權利要求授權，未選擇的權利要求可以重新加入進來。如果一般性權利要求的從屬權利要求授權，也可以重新加入那些沒有沖突的權利要求。

　　例如，針對上述限制性要求的審查意見，申請人對權利要求書做如下分析。權利要求如下：

　　1.一種有機發(fā)光顯示面板，其特征在于，包括：

　　顯示區(qū)和周圍的非顯示區(qū)；

　　襯底基板；

　　設置在所述襯底基板上的驅(qū)動器件層、發(fā)光器件層，所述驅(qū)動器件層和所述發(fā)光器件層位于所述顯示區(qū)；所述驅(qū)動器件層包括多個薄膜晶體管，所述發(fā)光器件層包括多個有機發(fā)光二極管；

　　封裝層，所述封裝層覆蓋所述發(fā)光器件層；

　　所述非顯示區(qū)包括靜電釋放部，所述靜電釋放部為透明導電薄膜，且位于所述封裝層背離所述襯底基板的一側(cè)；

　　所述非顯示區(qū)包括至少一個阻隔部，所述阻隔部圍繞所述顯示區(qū)設置，所述阻隔部位于所述襯底基板和所述封裝層之間；

　　在垂直于所述襯底基板的方向上，所述靜電釋放部和所述阻隔部交疊。

　　2.根據(jù)權利要求1所述的有機發(fā)光顯示面板，其特征在于：

　　所述有機發(fā)光顯示面板還包括位于所述封裝層背離所述襯底基板的一側(cè)的觸控層，所述觸控層包括觸控電極和觸控走線；

　　所述靜電釋放部和所述觸控電極的材料相同且同層設置。

　　3.根據(jù)權利要求1所述的有機發(fā)光顯示面板，其特征在于：

　　所述有機發(fā)光顯示面板還包括封裝金屬墊，所述阻隔部包括封裝膠；

　　所述封裝金屬墊位于所述驅(qū)動器件層，所述封裝膠位于所述封裝金屬墊背離所述襯底基板的一側(cè)；所述封裝層通過所述封裝膠和所述襯底基板貼合；

　　在垂直于所述襯底基板的方向上，所述靜電釋放部和所述封裝膠交疊。

　　4.根據(jù)權利要求1所述的有機發(fā)光顯示面板，其特征在于:

　　所述阻隔部包括擋墻；

　　所述封裝層為薄膜封裝層；所述薄膜封裝層覆蓋所述擋墻背離所述襯底基板的一側(cè)表面；

　　在垂直于所述襯底基板的方向上，所述靜電釋放部和至少一個所述擋墻交疊。

　　5.根據(jù)權利要求1所述的有機發(fā)光顯示面板，其特征在于：

　　所述靜電釋放部為環(huán)形且圍繞所述顯示區(qū)設置。

　　6.根據(jù)權利要求1所述的有機發(fā)光顯示面板，其特征在于：

　　所述有機發(fā)光顯示面板還包括綁定區(qū)和柔性線路板，所述綁定區(qū)包括多個焊盤，所述焊盤位于所述驅(qū)動器件層，所述柔性線路板和所述焊盤電連接；

　　所述多個焊盤包括低電位焊盤，所述靜電釋放部和所述低電位焊盤電連接。

　　7、8、9......

　　首先，可以分析每條權利要求對應的附圖，例如：

　　通過列出的權利要求與附圖的對應關系表格，即可以清楚地確定不同的子類對應的權利要求。例如，申請人選擇了 Species XII，其對應權利要求有1,2,3,5…。在這種情況下，建議選擇的同時一并進行反駁，從而在所選擇的權利要求授權之后，也可以重新加入其他未選擇的無沖突的權利要求。

　　另外，在發(fā)出和維持限制性要求方面，美國專利商標局賦予了美國審查員很大的自由裁量權，因此對限制性要求進行反駁爭辯的成功率非常低，建議申請人根據(jù)自身的需求選擇不同的發(fā)明/子類。對于未選擇且授權后無法重新加入的權利要求，可以選擇分案申請，繼續(xù)申請等方式來獲得保護。

　　四、總結

　　本文為筆者在實踐中的分析總結，通過案例探討了美國專利審查的限制性選擇要求，從而示出其與單一性意見在法律規(guī)定、評判標準和應對策略等方面的區(qū)別，希望可以為讀者在答復此類審查意見時給予啟發(fā)。如有不當之處，歡迎交流指正。